场发射扫描电镜测量分析系统
发布者: 发布时间:2023-08-21
SIGMA300场发射扫描电镜采用成熟的GEMINI光学系统设计,将低电压成像技术发挥到了极致,采用适宜的探针电流范围。SIGMA300将高级的分析性能与场发射扫描技术相结合,多种探测器可选,用于微观形貌观察、微区成分分析、物质结构、性能分析等。广泛地应用于金属材料(钢铁、冶金、有色、机械加工)和非金属材料(化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维)等检验和研究。该设备配有能谱仪、全自动矿物分析系统AMICS和EBSD分析系统。
SIGMA300场发射扫描电镜
主要性能指标:
分辨率1.0nm@15kV, 1.6nm@1kV
极好的电子束稳定度(< 0.2%/h)
极宽的加速电压20V–30kV
圆柱形一体化大样品室,内径365mmx 高度275 mm,能装直径250mm样品
5 轴马达中心样品台
图像存储分辨率高达32K x 24K像素
放大倍率10倍至30万倍
分析工作距离1mm 至50mm
带样品接触报警装置
带样品电流监测器
样品室极限真空度优于2×10-4 Pa