场发射扫描电子显微镜（Sigam300）

设备名称：高分辨率场发射扫描电镜

设备型号：SIGMA300

设备功能介绍：

SIGMA300场发射扫描电镜采用成熟的GEMINI光学系统设计，将低电压成像技术发挥到了极致，采用适宜的探针电流范围，降低50%的信噪比从而提升了85%的衬度信息。Sigma300将高级的分析性能与场发射扫描技术相结合，多种探测器可选：用于颗粒、表面或者纳米结构成像。

能普仪(X-MAXN50) 用来对材料微区成分元素种类与含量分析，应用领域包括：高分子、陶瓷、混凝土、生物、矿物、纤维等无机或有机固体材料分析；金属材料的相分析、成分分析和夹杂物形态成分的鉴定；可对固体材料的表面涂层、镀层进行分析，如：金属化膜表面镀层的检测；金银饰品、宝石首饰的鉴别，考古和文物鉴定，以及刑侦鉴定等领域；进行材料表面微区成分的定性和定量分析，在材料表面做元素的面、线、点分布分析。

EBSD(型号：HKL NORDLYS NANO)，全称电子背散射衍射(外文名Electron Backscattered Diffraction)，EBSD的主要特点是在保留扫描电子显微镜的常规特点的同时进行空间分辨率亚微米级的衍射（给出结晶学的数据）。EBSD技术的应用领域集中于多种多晶体材料——工业生产的金属和合金、陶瓷、半导体、超导体、矿石——以研究各种现象，如热机械处理过程、塑性变形过程、与取向关系有关的性能（成型性、磁性等）、界面性能（腐蚀、裂纹、热裂等）、相鉴定等。

氩离子抛光仪（PECS II_685）设备。采用两个宽束氩离子束对样品表面进行抛光，去除损失层，从而得到高质量的样品，用于在SEM、光镜或者扫描电子探针上进行成像、EDS，EBSD，CL，EBIC或者其他分析。

技术参数：

分辨率：1.0nm@30kV STEM 、1.0nm @15 kV 、1.8nm @1kV

放大倍数：10-300,000×

加速电压：调整范围：0.02-30 kV（无需减速模式实现）

探针电流： 3pA～20nA（100nA选配）稳定性优于 0.2%/h

低真空范围： 2-133Pa （Sigma 300VP可用）

样品室： 365 mm（φ），275mm（h）

样品台：5轴优中心全自动X=125mm Y=125 mm Z=50 mm T=-10o-90o R=360o

服务领域：

扫描电镜(SEM)广泛地应用于金属材料(钢铁、冶金、有色、机械加工)和非金属材料(化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维)等检验和研究。

在材料科学研究、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域进行材料的微观形貌、组织、成分分析，各种材料的形貌组织观察，材料断口分析和失效分析，材料实时微区成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面扫描和线扫描分布测量，晶体、晶粒的相鉴定，晶粒尺寸、形状分析，晶体、晶粒取向测量。